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       真空鍍膜設(shè)備的沉積方式主要涵蓋以下幾種：

       1、真空蒸鍍：這是PVD法中使用很早的技術(shù)。在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上。蒸發(fā)的方法常用電阻加熱、電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面。

       2、濺射鍍膜：在充氬(Ar)氣的真空條件下，使氬氣進(jìn)行輝光放電，氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+)，氬離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。

       3、離子鍍：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓，這樣離子沉積于基體表面形成薄膜。

       4、真空卷繞鍍膜：一種利用物理的氣相沉積方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

       5、束流沉積鍍：結(jié)合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術(shù)的離子表面復(fù)合處理技術(shù)，利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術(shù)。

       此外，根據(jù)蒸發(fā)方式的不同，真空蒸鍍還可以分為電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和感應(yīng)加熱蒸發(fā)等多種方式。這些沉積方式各有其特點(diǎn)和適用場(chǎng)景，可以根據(jù)具體的鍍膜需求和條件進(jìn)行選擇。
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